第(3/3)页

    不止是徐教授，众人同样用不可思议的眼神看着木村光一，目光中带着无法言说的迫切。

    华夏经过二十多年的研发，光刻机技术才达到3微米的精度。

    而眼前的光刻机则是在六十年代末，意在电子产业图腾的冬之公司，才开始进入光刻领域，研发出来的，现在就已经达到了1微米曝光度了吗？

    这差距....也太大了吧！

    有些不可相信。

    看木村光一的表情，也不像是在说谎。

    他也没有必要说谎。

    但他的话，对来自华夏光刻科研人员的打击实在是太大了。

    可打击远不止于此！

    “这台是霓糠公司的最新型号N1010G，也是能达到一微米曝光的光刻机...。

    而这台呢？

    则是在1975年，世界上首次实现了1微米以下曝光的加能F141F光刻机。”木村光一轮流指着另两台设备继续介绍道。

    “.......”

    “他们是怎么做到的？”

    “是啊！1975年就可以做到1微米以下曝光的光刻机，这岛国科研速度也太可怕了吧！”华夏科研人员讨论声不断。

    好不容易聚集了华夏科研全力，研发出来的光刻机，如果是拎出来和眼前的这几台进行比较的话，当然是能被秒成渣渣。

    闭门造车太久了，对于门外的事情是一无所知。

    看来想要与国际接轨，并不是一拍脑门就能够一切顺利的事情。

    加能公司在1975年就可以达到1微米以下曝光的这个事实，无异于一盆冬日里的冷水，劈头盖脸的将众人振兴华夏光刻机的希望之火，尽数浇灭。

    光刻机本质其实是投影仪加照相机。

    半导体器件的制造过程中，光刻机承担“曝光”的作用。

    　　


    第(3/3)页